Q1.做TEM測(cè)試時(shí)樣品的厚度最厚是多少?
TEM的樣品厚度最好小于100nm，太厚了電子束不易透過(guò)，分析效果不好。
Q2.請(qǐng)問(wèn)樣品的的穿晶斷裂和沿晶斷裂在SEM圖片上有各有什么明顯的特征？
在SEM圖片中，沿晶斷裂可以清楚地看到裂紋是沿著晶界展開(kāi)，且晶粒晶界明顯；穿晶斷裂則是裂紋在晶粒中展開(kāi)，晶粒晶界都較模糊。
Q3.做TEM測(cè)試時(shí)樣品有什么要求？
很簡(jiǎn)單，只要不含水分就行。如果樣品為溶液，則樣品需要滴在一定的基板上（如玻璃），然后干燥，再噴碳就可以了。如果樣品本身導(dǎo)電就無(wú)需噴碳。
Q4.水溶液中的納米粒子如何做TEM？
透射電鏡樣品必須在高真空中下檢測(cè)，水溶液中的納米粒子不能直接測(cè)。一般用一個(gè)微柵或銅網(wǎng)，把樣品撈起來(lái)，然后放在樣品預(yù)抽器中，烘干即可放入電鏡里面測(cè)試。如果樣品的尺寸很小，只有幾個(gè)納米，選用無(wú)孔的碳膜來(lái)?yè)茦悠芳纯伞?/p>
Q5.粉末狀樣品怎么做TEM？
掃描電鏡測(cè)試中粉末樣品的制備多采用雙面膠干法制樣，和選用合適的溶液超聲波濕法制樣。分散劑在掃描電鏡的樣品制備中效果并不明顯，有時(shí)會(huì)帶來(lái)相反的作用，如干燥時(shí)析晶等。
Q6.我想知道EDS與XPS測(cè)試時(shí)采樣深度的差別？
XPS采樣深度為2-5nm，EDS采樣深度大約1um。
Q7.能譜，有的叫EDS，也有的叫EDX，到底哪個(gè)更合適一些？
能譜的全稱是：Energy-dispersive X-ray spectroscopy 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化術(shù)語(yǔ)：EDS-能譜儀 EDX-能譜學(xué)。
Q8.TEM用銅網(wǎng)的孔洞尺寸多大？
撈粉體常用的有碳支持膜和小孔微柵，小孔微柵上其實(shí)也有一層超薄的碳膜。拍高分辨的，試樣的厚度最好要控制在20 nm以下，所以一般直徑小于20nm的粉體才直接撈，顆粒再大的話最好是包埋后離子減薄。
Q9.在透射電鏡上觀察到納米晶,在納米晶的周圍有非晶態(tài)的區(qū)域,我想對(duì)非晶態(tài)的區(qū)域升溫或者給予一定的電壓(電流),使其發(fā)生變化,原位觀察起變化情況？
用原子力顯微鏡應(yīng)該可以解決這個(gè)問(wèn)題。
Q10.Mg-Al合金怎么做SEM，二次電子的？
這種樣品的正確測(cè)法應(yīng)該是先拋光，再腐蝕。若有蒸發(fā)現(xiàn)象，可以在樣品表面鍍上一層金。
Q11.陶瓷的TEM試樣要怎么制作？
切片、打磨、離子減薄、FIB。
Q12.透射電子顯微鏡在高分子材料研究中的應(yīng)用方面的資料？
殷敬華 莫志深 主編 《現(xiàn)代高分子物理學(xué)》（下冊(cè)） 北京：科學(xué)出版社，2001[第十八章 電子顯微鏡在聚合物結(jié)構(gòu)研究中的應(yīng)用]。
Q13.透射電鏡中的微衍射和選區(qū)衍射有何區(qū)別？
區(qū)別就是電子束斑的大小。選區(qū)衍射束斑大約有50微米以上，束斑是微米級(jí)就是微衍射。微衍射主要用于鑒定一些小的相。
Q14.SEM如何看氧化層的厚度？通過(guò)掃描電鏡看試樣氧化層的厚度，直接掰開(kāi)看斷面，這樣準(zhǔn)確嗎？
通過(guò)掃描電鏡看試樣氧化層的厚度，如果是玻璃或陶瓷這樣直接掰開(kāi)看斷面是可以的；如果是金屬材料可能在切割時(shí)，樣品結(jié)構(gòu)發(fā)生變化就不行了，所以要看是什么材料的氧化層。
Q15.TEM對(duì)微晶玻璃的制樣要求
先磨薄片厚度小于500um,再到中心透射電鏡制樣室進(jìn)行釘薄，然后離子減薄。
Q16.電子能量損失譜由哪幾部分組成？
EELS和HREELS是不同的系統(tǒng)。前者一般配合高分辨透射電鏡使用，而且最好是場(chǎng)發(fā)射槍和能量過(guò)濾器。一般分辨率能達(dá)到0.1eV－1eV，主要用于得到元素的含量，尤其是輕元素的含量。而且能夠輕易得到相應(yīng)樣品區(qū)域的厚度。而HREELS是一種高真空的單獨(dú)設(shè)備，可以研究氣體分子在固體表面的吸附和解離狀態(tài)。
Q17.研究表面活性劑形成的囊泡，很多文獻(xiàn)都用cryoTEM做，形態(tài)的確很清晰，但所里只能作負(fù)染，能很好的看出囊泡的壁嗎？
高分子樣品在電子束下結(jié)構(gòu)容易破壞，用冷凍臺(tái)是最好的方式。做負(fù)染是可以看到壁的輪廓，但是如果要細(xì)致觀察，沒(méi)有冷凍臺(tái)大概不行吧？我看過(guò)的高分子樣品都是看看輪廓就已經(jīng)很滿意了，從來(lái)沒(méi)有提到過(guò)更高要求的。
Q18.（hkl）、{hkl}以及 [hkl]指的是什么？
（hkl）表示晶面指數(shù){hkl}表示晶面族指數(shù) [hkl]表示晶向指數(shù)。
Q19.電鏡測(cè)試中調(diào)高放大倍數(shù)后，光斑亮度及大小會(huì)怎樣變化？
變暗，因?yàn)槲镧R強(qiáng)了，焦距小了，所以一部分電流被遮擋住了，而亮度是和電流成正比的。由于總光束的強(qiáng)度是一定的，取放大倍率偏大則通過(guò)透鏡的電子束少，反則電子束大。調(diào)節(jié)brightness就是把有限的光聚在一起。
Q20.氧化鋁TEM選取什么模式？
氧化鋁最好用lowdose模式，這樣才會(huì)盡量不破壞晶體結(jié)構(gòu)。
更多檢測(cè)內(nèi)容 電話咨詢：400 880 4601
捷標(biāo)檢測(cè) 官網(wǎng)：www.jiebiaotset.com
【來(lái)源：Internet】
版權(quán)與免責(zé)聲明：
①本網(wǎng)凡注明"來(lái)源：xxx（非本網(wǎng)）"的作品，均轉(zhuǎn)載自其它媒體，轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé)，且不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。
②如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題，請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起兩周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，我們將在第一時(shí)間刪除內(nèi)容
